Fotorezist Çözücü Olarak Sıvı Sikloheksan CAS 110-82-7

Ürün Açıklaması

Sikloheksan nedir?

Sikloheksan, düşük yüzey gerilimine ve yüksek çözünürlüğe sahip, renksiz, uçucu bir organik çözücüdür. CAS numarası 110-82-7, EINECS numarası 203-806-2, kimyasal formülü C₆H₁₂, molekül ağırlığı 84.16'dır. Yoğunluk 0,77, erime noktası 6,5 derece, kaynama noktası 81 derecedir. Parlama noktası -18 derecedir, suda neredeyse çözünmez, 37,7 derecede buhar basıncı 168,8 mmHg, havaya göre buhar yoğunluğu 2,9'dur.

Temel Bilgiler

Kullanım Alanları

Sikloheksanın fotodirenç çözücü olarak aşağıdaki avantajları vardır:

• İyi çözünürlük: Fotorezistlerdeki reçineler ve ışığa duyarlılaştırıcılar gibi çeşitli bileşenler için iyi bir çözünürlüğe sahiptir ve bu bileşenlerin, alt tabaka üzerinde daha sonra tekdüze bir dirençli filmin oluşumuna yardımcı olan stabil ve tekdüze bir fotodirenç sistemi oluşturmak için çözelti içinde eşit şekilde dağılmasını sağlayabilir.
• Düşük kaynama noktası ve uçuculuk: Kaynama noktası yaklaşık 81 derecedir ve bu nispeten düşüktür. Fotorezist kaplandıktan sonra hızlı bir şekilde buharlaşabilir, böylece dirençli film hızlı bir şekilde kurutulabilir, işlem süresi kısalır ve üretim verimliliği artar. Ayrıca fotolitografi işlemi sırasında fotokimyasal reaksiyonun doğruluğu ve desen aktarımı solvent kalıntılarından etkilenmeyecektir.
• Yüksek kimyasal stabilite: Yüksek kimyasal stabiliteye sahiptir, fotorezistteki bileşenlerle kimyasal olarak reaksiyona girmesi kolay değildir ve fotolitografi işlemi sırasında ışık, gelişme vb. koşullar altında ayrışması veya bozulması kolay değildir. Fotorezistin performansının stabilitesini sağlayabilir ve fotolitografi modelinin kalitesini ve doğruluğunu garanti edebilir.
• Düşük yüzey gerilimi: Sikloheksanın düşük yüzey gerilimi vardır; bu, fotodirenç çözeltisinin kaplama sırasında alt tabaka yüzeyinde daha iyi yayılmasını sağlar, tekdüze ve düz bir dirençli film oluşturur; bu, fotolitografinin çözünürlüğünü iyileştirmede ve düzensiz film kalınlığının veya düzensiz yüzeyin neden olduğu desen kusurlarını azaltmada faydalıdır.
• Maliyet-etkinliği: Çok çeşitli kaynaklara sahip, nispeten yaygın ve ucuz bir organik çözücüdür. Fotorezistlerin toplu-üretiminde, solvent olarak Siklohekzanın kullanılması, üretim maliyetlerini azaltabilir ve iyi bir ekonomik pratikliğe sahiptir.

Güvenlik Bilgileri

Ateşleme kaynaklarından uzak tutun.
Gözlerle temasından kaçının.
Statik elektrik oluşumunu önlemek için gerekli önlemleri alın.
Bu malzemeyi ve kabını tehlikeli atık olarak atın.
Çevreye salınmasından kaçının. Özel Talimatlara/Güvenlik Veri Sayfasına bakın.
Yutulması halinde kusturmaya çalışmayın; Derhal tıbbi yardım alın ve kabı veya etiketi gösterin.
Kabı iyi-havalandırılan bir yerde saklayın.

Şirket Profili

Gneebiofitokimyasalların ve ince kimyasalların araştırma, geliştirme, üretim ve satışında uzmanlaşmış bir kuruluştur. Fabrikamız 2016 yılında kurulmuş olup, Henan Eyaleti'nde 3.600 metrekarelik bir alanı kaplamaktadır. 10 yılı aşkın Ar-Ge deneyimine sahip, profesyonel, iyi-donanımlı ve yüksek-kaliteli bir Ar-Ge ekibimiz var. Bizimreaktifürünlerimiz Amerika Birleşik Devletleri, Rusya, Kanada, Avustralya, Avrupa vb. dahil olmak üzere birçok ülkeye yaygın olarak ihraç edilmekte ve müşterilerimize hızlı sevkiyat hizmeti vermekteyiz. Gelecekte daha fazla arkadaşla uzun-vadeli ve karşılıklı fayda sağlayan işbirliği kurmayı ve müşterilerimize en iyi ürün ve hizmetleri sunmayı umuyoruz.

Popüler ürünlerimiz arasında Organik Kimyasallar bulunmaktadır:CAS: 3327-22-8 CTA, CAS 27126-76-7 Feniliyodosohidroksi Tosilat, katalizör:CAS 110-02-1 Tiyofen, diğerleri arasında.

Bize Ulaşın

SSS